华为在光刻机领域主要依赖 ASML的EUV光刻机进行7纳米芯片的量产。尽管上海微电子已经发布了新一代大视场高分辨率先进封装光刻机，并且华为海思已经开始采用公司生产的直写光刻机，但这些设备主要用于特定工艺或封装需求，而不是用于量产7纳米芯片。

因此，从量产7纳米芯片的角度来看， ASML的EUV光刻机是华为目前最好的选择。